不忍睹,以及单个芯片成本的急剧飙升!

    代价是在冯总和陈总不遗余力的配合下,今年3三月把良品率才很勉强得提高到了68%,目前还在艰难爬坡中!

    这是一种‘笨’办法,一种‘苦’办法!

    但,这是我们唯一能掌握能通向自主高端的生命线!”

    他看向汪剑锋,又看向陈默:

    “所以,汪总,您问最大的挑战和需要什么支持?

    挑战在于,我们需要在工艺、设计、工具链三个维度,同时进行极限突破,容不得任何一块短板!

    需要的支持是,集团必须持续给予我们超越常规的耐心、资源和政策倾斜,理解并接受N+1初期在成本和效率上的‘不完美’。”

    孟良凡的陈述,将N+1之路的艰难与决绝展现得淋漓尽致。

    他将目光投向陈默,眼神中充满了“神兵利器”的渴求,也带着并肩作战的战友的期待与挑战。

    “陈总,” 孟良凡的语气无比郑重。

    “您也知道N+1的艰难。

    这条路,对EDA工具链的要求,是颠覆性的。

    它要求工具不再是被动适应规则,而是要主动驱动设计、预测制造、赋能工艺!”

    他转向全场,详细列举出N+1给EDA带来的具体、严峻的挑战,每一项都直指核心:

    “第一,设计规则的复杂性与强制性。

    多重曝光导致设计规则数量爆炸式增长,且规则之间关联性极强。

    EDA工具必须能理解、消化并强制推行这套‘天书’,还能智能识别和规避规则冲突,否则版图根本无法制造。”

    “第二,模型精度必须逼近物理极限。

    在N+1尺度下,量子效应、统计涨落效应凸显。

    我们需要原子级精度的器件模型,需要电-热-力多物理场耦合仿真平台。

    模型失之毫厘,流片结果可能谬以千里!”

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